Volframia roiskuvat kohteet
Volframia roiskuvat kohteet
Volframi sputterointikohteilla on keskeinen rooli erilaisissa nykyaikaisissa teknologisissa sovelluksissa. Nämä kohteet ovat olennainen osa sputterointiprosessia, jota käytetään laajalti sellaisilla aloilla kuin elektroniikka, puolijohteet ja optiikka.
Volframin ominaisuudet tekevät siitä ihanteellisen valinnan sputterointikohteisiin. Volframi tunnetaan korkeasta sulamispisteestään, erinomaisesta lämmönjohtavuudestaan ja alhaisesta höyrynpaineestaan. Näiden ominaisuuksien ansiosta se kestää korkeita lämpötiloja ja energistä hiukkaspommittelua sputterointiprosessin aikana ilman merkittävää hajoamista.
Elektroniikkateollisuudessa volframisputterointikohteita käytetään ohuiden kalvojen kerrostamiseen substraateille integroitujen piirien ja mikroelektronisten laitteiden valmistukseen. Sputterointiprosessin tarkka ohjaus varmistaa kerrostuneiden kalvojen tasaisuuden ja laadun, mikä on kriittistä elektronisten komponenttien suorituskyvyn ja luotettavuuden kannalta.
Esimerkiksi litteiden näyttöjen tuotannossa sputteroivilla kohteilla kerrostetut volframiohutkalvot edistävät näyttöpaneelien johtavuutta ja toimivuutta.
Puolijohdesektorilla volframia käytetään yhteyksien ja sulkukerrosten luomiseen. Mahdollisuus kerrostaa ohuita ja muotoiltuja volframikalvoja auttaa vähentämään sähkövastusta ja parantamaan laitteen yleistä suorituskykyä.
Optiset sovellukset hyötyvät myös volframi-sputterointikohteista. Volframipinnoitteet voivat parantaa optisten komponenttien, kuten peilien ja linssien, heijastavuutta ja kestävyyttä.
Volframiruiskutuskohteiden laatu ja puhtaus ovat äärimmäisen tärkeitä. Pienetkin epäpuhtaudet voivat vaikuttaa kerrostetun kalvon ominaisuuksiin ja suorituskykyyn. Valmistajat käyttävät tiukkoja laadunvalvontatoimenpiteitä varmistaakseen, että tavoitteet vastaavat eri sovellusten vaativia vaatimuksia.
Volframi sputterointikohteet ovat välttämättömiä nykyaikaisen tekniikan kehityksessä, mikä mahdollistaa korkealaatuisten ohutkalvojen luomisen, jotka edistävät elektroniikan, puolijohteiden ja optiikan kehitystä. Niiden jatkuvalla parantamisella ja innovaatioilla on epäilemättä merkittävä rooli näiden toimialojen tulevaisuuden muovaamisessa.
Erityyppiset volframiruiskutuskohteet ja niiden sovellukset
On olemassa useita erilaisia volframiruiskutuskohteita, joista jokaisella on ainutlaatuiset ominaisuudet ja käyttötarkoitukset.
Puhdasta volframia roiskuvat kohteet: Nämä koostuvat puhtaasta volframista ja niitä käytetään usein sovelluksissa, joissa korkea sulamispiste, erinomainen lämmönjohtavuus ja alhainen höyrynpaine ovat välttämättömiä. Niitä käytetään yleisesti puolijohdeteollisuudessa volframikalvojen kerrostamiseen liitäntöjä ja sulkukerroksia varten. Esimerkiksi mikroprosessorien valmistuksessa puhdas volframisputterointi auttaa luomaan luotettavia sähköliitäntöjä.
Seosteiset volframi-sputterointikohteet: Nämä kohteet sisältävät volframia yhdistettynä muihin alkuaineisiin, kuten nikkeliin, kobolttiin tai kromiin. Seostettuja volframikohteita käytetään, kun tarvitaan tiettyjä materiaaliominaisuuksia. Esimerkki on ilmailuteollisuudessa, jossa seostettua volframisputterointikohdetta voidaan käyttää luomaan pinnoitteita turbiinin komponentteihin lämmönkestävyyden ja kulutuskestävyyden parantamiseksi.
Volframioksidisputterointikohteet: Näitä käytetään sovelluksissa, joissa tarvitaan oksidikalvoja. Niitä käytetään läpinäkyvien johtavien oksidien tuotannossa kosketusnäyttöjä ja aurinkokennoja varten. Oksidikerros auttaa parantamaan lopputuotteen sähkönjohtavuutta ja optisia ominaisuuksia.
Komposiitti volframi sputtering kohteet: Nämä koostuvat volframista yhdistettynä muihin materiaaleihin komposiittirakenteessa. Niitä käytetään tapauksissa, joissa molemmista komponenteista halutaan ominaisuuksien yhdistelmä. Esimerkiksi lääkinnällisten laitteiden pinnoituksessa voidaan käyttää komposiittivolframikohdetta bioyhteensopivan ja kestävän pinnoitteen luomiseksi.
Volframisputterointikohteen tyypin valinta riippuu sovelluksen erityisvaatimuksista, mukaan lukien halutut kalvon ominaisuudet, substraattimateriaali ja käsittelyolosuhteet.
Tungsten Target -sovellus
Käytetään laajasti litteissä näytöissä, aurinkokennoissa, integroiduissa piireissä, autolasissa, mikroelektroniikassa, muistissa, röntgenputkissa, lääketieteellisissä laitteissa, sulatuslaitteissa ja muissa tuotteissa.
Volframikohteiden koot:
Levyn kohde:
Halkaisija: 10mm - 360mm
Paksuus: 1mm - 10mm
Tasomainen kohde
Leveys: 20-600 mm
Pituus: 20mm - 2000mm
Paksuus: 1mm - 10mm
Pyörivä kohde
Ulkohalkaisija: 20-400 mm
Seinän paksuus: 1-30 mm
Pituus: 100-3000 mm
Volframiruiskutuskohteen tekniset tiedot:
Ulkonäkö: hopeanvalkoinen metallikiilto
Puhtaus: W≥ 99,95 %
Tiheys: yli 19,1 g/cm3
Toimitustila: Pinnan kiillotus, CNC-konekäsittely
Laatustandardi: ASTM B760-86, GB 3875-83
